镀膜是个什么工艺
镀膜是一种在材料表面镀上一层非常薄的透明薄膜的工艺，目的是改变材料表面的反射和透射特性。根据不同的应用需求和材料类型，可以选择不同的镀膜方法和材料。以下是几种常见的镀膜工艺：
1.真空蒸发镀膜：
原理：在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜。
优点：设备简单、操作容易；薄膜纯度高、厚度可较准确控制；成膜速率快，效率高。
缺点：密度差（只能达到理论密度的95%）；薄膜附着力较小。
2.真空溅射镀膜：
原理：用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够高的能量而溅出进入气相，这种溅出的、复杂的粒子散射过程称为溅射。
优点：膜厚可控性和重复性好；与基片的附着力强；膜层纯度高质量好；可制备与靶材不同的物质膜。
缺点：成膜速度比蒸发镀膜低；基片温度高；易受杂质气体影响；装置结构较复杂。
3.真空离子镀膜：
原理：在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物在基片上沉积。
优点：大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。
4.化学气相沉积（CVD）：
原理：通过化学反应在基片表面生成固态薄膜。
优点：薄膜质量高，生长速度快，可控性强。
缺点：设备复杂，成本较高。
镀膜技术广泛应用于光学元件、相机镜头、眼镜、汽车漆面等领域，通过不同的镀膜方法和材料选择，可以实现不同的功能需求，如提高透光率、减少反射、抗紫外线、增加硬度和耐磨性等。
